Çin, ilk 28nm litografi aracını geliştirmeyi başardı

Çin‘in en başarılı litografi sistemleri üreticisi Shanghai Micro Electronics Equipment’in (SMEE), 28nm sınıfı üretim sürecinde çip üretebilen birinci tarayıcısını yıl sonuna kadar teslim edeceği bildirildi. Bu haber resmi olarak onaylanmasa da Çin medyasında kendisine yer edindi. Bununla birlikte Çin’in bu adımı, ülkenin yarı iletken alanında dışa olan bağımlılığını noktalama istediği açısından son derece değerli.

Çin’den litografi sistem atağı

SMEE için geliştirilen SSA/800-10W tarayıcısı bir atılım niteliği taşıyor çünkü şirketin bugün sahip olduğu en gelişmiş tarayıcı sadece 90nm yahut daha üst üretim süreçlerinde kullanılabiliyor. 28nm kapasiteli litografi aracı vakitle Çinli yonga üreticilerinin bir dizi olgun teknoloji için yerli üretim kapasitesine güvenmelerini sağlayabilir.

Bu atılım, Çin’in yarı iletkende kendi kendine yeterliliğe ulaşma ve yabancı teknolojiye olan bağımlılığını azaltma gayesinin bir kesimi olarak yorumlanmalı. Öte yandan SMEE’nin bu tarayıcıyı kitlesel ölçülerde üretip üretemeyeceği ve ASML, Canon ve Nikon‘un makinelerinin yerini almak üzere tarayıcının ne vakit kullanıma sunulacağı hala karşılık bekliyor. Fakat şu kesin; SMEE, Çin’in ASML’si olma yolunda ilerliyor

ABD’nin mevcut ihracat kısıtlamaları, Çinli yonga üreticilerinin 14nm/16nm boyutlarının altında düzlemsel olmayan transistörlü mantık yongaları, 127’den fazla faal katmana sahip 3D NAND yongaları ve 18nm’den daha küçük DRAM’ler oluşturmak için gerekli araç ve teknolojilere erişimini engelliyor. Bu yılın başlarında Hollanda, Japonya ve Tayvan’ın da kısıtlamalara dahil olmasıyla Çin’in gelişmiş araçlara erişimi neredeyse sıfırlandı.